SJ/T 11508-2015 集成電路用正膠顯影液

范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了集成電路用正膠顯影液的術(shù)語、性狀、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則和包裝、標(biāo)志、儲存、運(yùn)輸。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于集成電路用正膠顯影液，以下簡稱正膠顯影液。
本標(biāo)準(zhǔn)不涉及使用安全性問題。本標(biāo)準(zhǔn)的使用人應(yīng)負(fù)責(zé)建立適當(dāng)?shù)陌踩】禇l款及使用范圍的限制。

術(shù)語
超純硝酸  ultrapure nitric acid
金屬離子含量不大于1μg/L的硝酸。

性狀和技術(shù)要求
性狀
本試劑為無色透明有剌激性氨昧的堿性液體，為四甲基氫氧化銨的水溶液，四甲基氫氧化銨含量允許相對偏差為±1.0%。

技術(shù)要求
正膠顯影液技術(shù)要求應(yīng)符合表1的規(guī)定:






試驗(yàn)方法
顯影液含量測定
試劑
鹽酸標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液: c(HCl)=0.1mol/L。
儀器和設(shè)備
自動電位滴定儀: 配酸堿滴定電極。
測定步驟
稱取適量樣品于滴定杯中，至0.0001g，加入40mL純水，按照自動電位滴定儀操作規(guī)程測定顯影液含量。
兩次平行測定結(jié)果相對偏差不大于0.5%，取其算術(shù)平均值為測定結(jié)果。


京都電子KEM 自動電位滴定儀 AT-710S
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